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水熱高壓反應釜具有密封性好,安全系數高,消耗酸溶劑少,使用簡便等優點.應用于食品、生物、地質、冶金、環保、商檢、化工、軍工、核工等系統實驗室的氣相等,水熱高壓反應釜在使用中的維修檢查如下:1、經常檢查減速機有無漏油現象,軸封是否完好,檢查減速箱內油位和油質變化情況,釜用機封油盒內是否缺油,必要時補加或更新相應的機油;2、檢查安全閥、防爆膜、壓力表、溫度計等安全裝置是否準確靈敏好用,安全閥、壓力表是否已校驗,并鉛封完好,壓力表的紅線是否劃正確,防爆膜是否內漏;3、經常傾聽反應釜...
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不銹鋼反應釜以它的非常穩定的性能,以及成熟的工藝受到了廣大消費者的喜歡,同時不銹鋼反應釜也是使用非常廣泛的生產設備之一。反應釜常見的故障現象及原因有以下幾點:密封面的地方有了紕漏的現象。或者是發現螺桿螺紋松動了,密封的面受到了損傷。可以用這樣的方法排除,把已經松動的螺桿再一次上緊,并且重新修磨、拋光密封的面。反應釜的閥門的地方發生紕漏現象。閥桿、閥口處或還有密封面出現了損傷。可以維修或者是把出現故障的閥桿或者閥口換掉。反應釜的外磁鋼旋轉,內磁鋼不轉,電機的電流減小。反應釜里面...
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一種組合式縮合水解反應釜,包括支架.水解反應釜.縮合反應釜,水解反應釜與縮合反應釜分別安裝在兩個支架上,水解反應釜上下端設進料口和出料口,水解反應釜的頂端設攪拌裝置,縮合反應釜上下端分別設進料口和出料口,縮合反應釜的頂端設攪拌裝置,縮合反應釜的底端出料口與水解反應釜的進料口通過管道互相聯通,管道上安裝真空泵.能使縮合和水解反應連續進行.能簡化加工工序,提高生產效率.
4-15
一種反應釜溫控裝置,由溫度傳感器.電磁閥組成,其特征在于:在反應釜上端熱源管中串接一電磁閥,反應釜內裝有溫度傳感器,反應釜上裝有冷卻水管,管的里側制有噴水孔,環形冷卻水管通過電磁閥,與自來水或備用水管相接,反應釜下部制有接水筒,筒底一邊裝有溫度傳感器,筒底中間通過電磁閥接有出水管.解決了目前反應釜控制溫度全靠體力,勞動強度大之不足,具有采用兩溫度傳感器及三個電磁閥即能達到自動控溫作用,減輕了操作工人勞動強度,方便.省力,生產工藝簡單,具有成本低,操作方便等優點.
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電磁反應釜包括采用鋼制材料制成的反應釜鍋體以及加熱反應釜鍋體的加熱裝置,加熱裝置為設置在反應釜鍋體外側的高頻諧振線圈,高頻諧振線圈與設于反應釜鍋體外部的電源連接,且其軸線與反應釜鍋體大致垂直.借助高頻諧振線圈產生的交變磁場在反應釜鍋體內部產生的渦流而使反應釜鍋體自身發熱,從而對放置在反應釜鍋體內的物料進行加熱,而且可以減少反應釜的制造成本.運行成本以及減小反應釜的占地面積.
4-15
一種循環反應釜,包括支架.反應釜.熱交換器,反應釜安裝在支架上,反應釜頂端設進料口,出料口上設控制閥,反應釜底部設出料口,熱交換器安裝在比反應釜低的平面上,反應釜與熱交換器的底部通過管道聯通,反應釜的側壁與熱交換器的側壁之間通過管道聯通,反應釜的頂部設視料孔和人孔.解決了普通反應釜換熱面積小.換熱效率差的問題.
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一種反應釜清潔裝置,包括反應釜.位于反應釜內的旋轉噴頭.設于反應釜上的頂法蘭,反應釜清潔裝置還包括堿液槽.可伸入反應釜內的頂噴頭.連接噴頭和堿液槽的管路系統以及用于控制管路系統的控制閥系統,控制閥系統通過管路系統分別與堿液槽和頂噴頭連接.其優勢在于:傳統反應釜清洗裝置僅僅通過內置噴頭用清水清洗反應釜內壁,而本裝置設計了可以靈活置入或去除的頂噴頭,當反應釜內油污過重時,可以根據需要使用堿液清洗其內壁.
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1、反應器與配件:反應釜及釜蓋、攪拌頭,攪拌器、連接件與排出閥2、輔助設備:攪拌器驅動馬達、升降舉重器、進料器與冷凝器3、加熱與制冷裝置:Julabo高精度動態溫度控制器、熱交換器、閥門與控制器,Pt-100溫度傳感器等4、Chemvak防腐蝕真空系統,真空過濾系統5、真空度:10-3mbar6、壓力:200bar7、溫度:-100℃至400℃8、可選擇材質:316不銹鋼(標準釜體);HasloyC4;Alloy59特殊耐壓玻璃9、生產執行標準:TüVRheinland(壓力...
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MBS反應釜組涉及一種改性劑的MBS反應釜組.包括多個依次連接的反應釜,相鄰反應釜連通,反應釜上開設有進液口和出液口,反應釜內設有攪拌裝置,各反應釜的進液口設置在反應釜上部,出液口設置在反應釜下部,前級反應釜的出液口平于或高于后級反應釜的進液口,攪拌裝置包括攪拌軸和設置在攪拌軸上的渦輪式攪拌槳.提供了一種結構簡單.無需動力裝置.且能使各物料充分混合的MBS反應釜組.
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一種在具有催化劑的情況下使液體與處理氣體反應的反應釜,反應釜包括:(A)包住*反應區的連續的壁,*反應區包括在液體和處理氣體之間產生所需要的反應的催化劑裝置;(B)在*反應區的上方.用以使一部分液體進入反應釜的液體入口裝置,(C)在*反應區的下方.用以使一部分處理氣體進入反應釜的氣體入口裝置;(D)在*反應區的下方.用以使反應后的液體排出反應釜的液體出口裝置,(E)在*反應區的上方.用以使一部分處理氣體排出反應釜的氣體出口裝置,(F)在*反應區內的氣體旁路裝置,用以使一部分處...